PRODUKTE

Funktionen
CAS-Nr.: | 12039-88-2 |
Lineare Formel: | Wsi2 |
Aussehen: | Bläulich-grauer kristalliner Feststoff |
Reinheit: | 99.5% |
Wolframdisilizidpulver Beschreibung
Wolframsilizid (WSi2) ist eine anorganische Verbindung, ein Silizid von Wolfram. Es ist ein elektrisch leitfähiges keramisches Material.
Wolframsilizidpulver ist im Allgemeinen sofort in den meisten Volumina verfügbar. Ultrahochreinheit, hohe Reinheit, Submikron und Nanopulverformen können in Betracht gezogen werden.
Wolframsilizid wird in der Mikroelektronik als Kontaktmaterial mit einem spezifischen Widerstand von 60–80 μΩ cm verwendet; es bildet sich bei 1000°C. Es wird oft als Shunt über Polysiliziumleitungen verwendet, um ihre Leitfähigkeit zu erhöhen und die Signalgeschwindigkeit zu erhöhen. Wolframsilizidschichten können durch chemische Gasphasenabscheidung hergestellt werden, z.B. unter Verwendung von Monosilan oder Dichlorsilan mit Wolframhexafluorid als Ausgangsgasen. Der abgeschiedene Film ist nicht-stöchiometrisch und muss geglüht werden, um in eine leitfähigere stöchiometrische Form überzugehen. Wolframsilizid ist ein Ersatz für frühere Wolframfolien. Wolframsilizid wird auch als Barriereschicht zwischen Silizium und anderen Metallen, z.B. Wolfram, verwendet.
Wolframsilizid ist auch für den Einsatz in mikroelektromechanischen Systemen von Wert, wo es meist als dünne Filme zur Herstellung von Mikroskalenschaltungen eingesetzt wird. Für solche Zwecke können Folien aus Wolframsilizid plasmageätzt werden, z. B. mit Stickstofftrifluoridgas.
WSi2 eignet sich gut in Anwendungen als oxidationsbeständige Beschichtungen. Insbesondere in Ähnlichkeit mit Molybdändisilizid, MoSi2, macht der hohe Emissionsgrad von Wolframdisilizid dieses Material attraktiv für die Hochtemperatur-Strahlungskühlung, mit Auswirkungen auf Hitzeschilde.
Wolframdisilizidpulver-Anwendungen und verwandte Industrien
● Kontaktmaterial in der Mikroelektronik
● Shunt über Polysiliziumleitungen, um ihre Leitfähigkeit zu erhöhen und die Signalgeschwindigkeit zu erhöhen
● Chemische Gasphasenabscheidung
● Ersatz für frühere Wolframfolien
● Barriereschicht zwischen Silizium und anderen Metallen (z. B. Wolfram)
● Mikroelektromechanische Systeme
● Oxidationsbeständige Beschichtungen
● Plasmageätzte Folien
● Forschung & Labor
● Materialwissenschaft
● Dünnschichtabscheidung
● Beschichtung
Chemische Identifikatoren
Lineare Formel | Wsi2 |
MDL-Nummer | MFCD00049704 |
EG-Nr. | 234-909-0 |
Beilstein/Reaxys Nr. | N/A |
Pubchem CID | 16212546 |
IUPAC-Name | Bis(λ3-silanylidyne) Wolfram |
LÄCHELT | [Si]#[W]#[Si] |
InchI-Kennung | InChI=1S/2Si.W |
InchI-Taste | WQJQOUPTWCFRMM-UHFFFAOYSA-N |
Wolframdisilizid-Eigenschaften (theoretisch)
Zusammengesetzte Formel | Si2W |
Molekulargewicht | 240.01 |
Aussehen | Bläulich-grauer kristalliner Feststoff |
Schmelzpunkt | 2160 °C |
Siedepunkt | N/A |
Dichte | 9,3 g/cm3 |
Löslichkeit in H2O | Unlöslich |
Exakte Masse | 239.904786 |
Monoisotopenmasse | 239.904786 |
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